芯片除塵檢測(cè)設(shè)備導(dǎo)入目的
確保檢測(cè)精度可靠性
通過集成高效除塵模塊消除表面微塵干擾,使AOI系統(tǒng)能夠精準(zhǔn)識(shí)別芯片的微米級(jí)結(jié)構(gòu)特征和缺陷(如0.1μm級(jí)劃痕、焊點(diǎn)異常等),將檢測(cè)誤判率降低至行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的<0.01%,漏檢率控制在百萬分率(PPM)水平,確保質(zhì)量數(shù)據(jù)真實(shí)可信。
構(gòu)建全流程質(zhì)量防護(hù)體系
采用靜電消除+真空吸附的復(fù)合除塵技術(shù),將芯片表面潔凈度提升至Class 1等級(jí)(>0.5μm顆粒數(shù)<1個(gè)/cm2),從源頭避免后續(xù)鍵合、封裝環(huán)節(jié)的界面污染風(fēng)險(xiǎn),顯著降低因微粒導(dǎo)致的電路短路(降低90%)、接觸阻抗異常(減少85%)等工藝缺陷。
滿足半導(dǎo)體制造標(biāo)準(zhǔn)體系
設(shè)備符合IEC 61340-5-1靜電防護(hù)標(biāo)準(zhǔn)與SEMI F21-1102潔凈度規(guī)范,支持自動(dòng)生成帶時(shí)間戳的除塵日志(含壓差、風(fēng)量、顆粒計(jì)數(shù)等20+參數(shù)),確保生產(chǎn)數(shù)據(jù)完整追溯,助力通過ISO 14644潔凈室認(rèn)證和VDA 6.3過程審核。
實(shí)現(xiàn)智能制造閉環(huán)管理
通過智能傳感系統(tǒng)實(shí)時(shí)監(jiān)控除塵效率,與MES系統(tǒng)集成實(shí)現(xiàn)異常預(yù)警(響應(yīng)時(shí)間<50ms),減少設(shè)備停機(jī)干預(yù)頻次達(dá)70%,使AOI設(shè)備綜合利用率(OEE)提升至92%,單線產(chǎn)能提高30%,單位檢測(cè)成本下降25%。

技術(shù)規(guī)格
類別 | No | 項(xiàng)目 | 關(guān)鍵參數(shù) | 上下料規(guī)格 |
設(shè)備尺寸
| 1 | 尺寸要求 | 否 | 長度≤950mm;寬度≤950mm;高度≤1858mm |
2 | 軌道高度 | 是 | 整體軌道高度在900-1100mm范圍內(nèi) | |
產(chǎn)品工裝信息 | 1 | 載板尺寸 | 是 | 載板長度:150-330mm, 載板寬度:80-100mm;載板厚度:0.1mm-2mm,可更換夾子進(jìn)行適配此范圍(優(yōu)先考慮皮帶傳送) |
加工效率 | 1 | UPH | 是 | 以兩顆Die、每顆die線數(shù)21根(合計(jì)42根)為例、每板528pcs,基板尺寸100*300mm,UPH要求≥4000pcs |
設(shè)備硬件要求
| 1 | CCD攝像頭 | 是 | 彩色相機(jī)檢測(cè),像素≥1600萬 |
2 | CCD攝像頭檢查區(qū)域范圍 | 是 | 檢測(cè)區(qū)域:≥ 15mm*20mm; | |
3 | 鏡頭景深 | 是 | 景深需滿足被檢測(cè)測(cè)物,相機(jī)在高度方向上可調(diào)節(jié)。 | |
4 | 光源 | 是 | 光源可滿足附件缺陷類型檢測(cè);具備基本同軸光、環(huán)形光;或者滿足檢測(cè)的其他光源。 | |
設(shè)備功能要求 | 1 | 真空功能 | 是 | 產(chǎn)品固定采用真空吸取固定方式,真空吸附定,并自動(dòng)檢測(cè)真空值,超出規(guī)格報(bào)警。 |
2 | 不良品處理方式 | 是 | 具備不良品標(biāo)記功能,系統(tǒng)記錄不良品位置,數(shù)據(jù)能同步傳輸?shù)胶蠊ば颍糜诤罄m(xù)人工復(fù)判。 | |
3 | 不良信息存儲(chǔ) | 是 | 具備不良圖片,不良信息,不良品位置等信息存儲(chǔ)功能,可用于后續(xù)不良追溯(生產(chǎn)時(shí)間,產(chǎn)品在載板上的位置,不良類型). | |
上下料 | 1 | 連線能力 | 是 | 具備與上下游設(shè)備連線能力 |